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동부하이텍, 멘토그래픽스와 아날로그반도체 PDK 개발 2011.01.10
- LED칩, 전력관리칩 등 아날로그반도체 최대 6개월 설계 기간 단축
- 보안기능 강화, 데이터베이스 외부 유출이나 해킹 전면 차단
- 케이던스와 태너에 이어 세번째, 년내 시놉시스와 레이커 PDK도 확보



동부하이텍(대표: 박용인 사장)은 10일 반도체 설계용 소프트웨어 회사인 美 멘토그래픽스와 아날로그반도체 프로세스 디자인 키트(PDK: Process Design Kit)를 개발해 반도체설계기업들에게 제공한다고 밝혔다.


이번에 개발한 프로세스 디자인 키트는 0.18, 0.35미크론급 복합전압소자 (BCDMOS) 공정에 최적화된 설계지원 툴이다. 팹리스들이 이 PDK를 사용할 경우 LED 구동 칩, 전력관리칩(PMIC), 전력변환기(컨버터) 등 아날로그반도체를 설계할 때 기간을 3~6개월 정도 단축할 수 있다.


이번 PDK는 30V와 60V를 각각 지원하는 0.18, 0.35미크론급 복합전압소자 (BCDMOS) 공정용으로 모바일, 노트북, TV등의 소비가전용 아날로그반도체 설계에 적합하다.


특히 이번 PDK는 기존의 PDK보다 보안 기능이 강화되어 PDK가 설치된 PC이외에는 작동되지 않아 설계 데이터베이스의 유출이나 외부로부터의 해킹을 전면 차단할 수 있다.


동부하이텍은 이번 PDK를 85V에서 700V까지 지원하는 고전압 복합전압소자(BCDMOS) 공정에도 최적화해 산업용 아날로그반도체 설계까지 지원할 계획이다. 또한 유럽 반도체 설계시장에서 점유율이 높은 멘토그래픽스의 PDK를 활용하여 유럽시장 공략도 가속화할 계획이다.


동부하이텍은 기존 케이던스와 태너EDA의 PDK에 이어 멘토그래픽스의 설계 툴도 갖춤으로써 아날로그반도체 설계전문 팹리스들을 보다 폭넓게 지원할 수 있게 됐다. 올해 말까지 시놉시스, 레이커와도 아날로그반도체용 PDK를 추가로 개발할 계획이다.



◆ 용어 설명

△ PDK(Process Design Kit)
PDK는 주로 팹리스(반도체설계회사)에서 반도체를 설계할 때 사용하는 데이터베이스로, 통상적으로 파운드리(반도체 제조 전문회사)에서 제조공정에 최적화된 설계를 할 수 있도록 팹리스로 제공하는 설계지원 툴임

△ BCDMOS (복합고전압소자, Bipolar CMOS DMOS)
BCDMOS 공정은 Bipolar 공정을 활용한 아날로그 회로(오디오 앰프 등 소리증폭 기능), CMOS 공정을 활용한 로직 회로(논리ㆍ연산 등의 기능), DMOS 공정을 활용한 고전압 소자(전력관리ㆍ고전압 지원)를 하나의 칩에서 구현할 수 있도록 하는 반도체 제조공정임.

이 공정기술은 주로 0.35미크론급 공정을 기반으로 생산되었는데, 최근 전자제품의 기능이 다양해지고 복잡해지면서 0.18미크론급 공정을 이용하여 아날로그ㆍ로직ㆍ고전압 소자를 하나의 칩에서 구현하는 시스템 온 칩(System On a Chip)이 업계의 선두기술로 부상하고 있음. 동부하이텍은 지난 2008년 TSMC, UMC 보다 먼저 0.18미크론급 BCDMOS 공정기술을 개발하였음. 이 공정을 이용하면 칩 사이즈를 40~60% 가량 줄여 제조시간과 비용을 절감할 수 있으며, 가격 또한 0.35미크론급 제품에 비해 약 30%정도 고가인 고부가가치 공정 기술임.

(출처 : 동부하이텍 홍보팀)
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